製品とサービス 製品情報 厚膜熱酸化膜加工 当社の厚膜熱酸化膜技術は光通信部材に利用されています。 シリコンの限界を超えたシリコン。それが私たちの厚膜形成技術です。 詳しくはこちら SOIウェーハ 当社のSOIウェーハは、自社独自の厚膜熱酸化膜技術を基に製作されております。 こちらMEMS分野において大変有効です。 詳しくはこちら 基板販売 半導体用および光通信用、その他各種製品用途としてご提供いたします。 サイズや製法、面方位や厚みなどお客様のニーズに合わせた製品をご提供できます。 詳しくはこちら SiCウェーハ販売 SiCウェーハは絶縁破壊電界強度がSiの10倍、熱伝導度が3倍と優れておりパワーデバイスやLED用途といして幅広く使用されています。 詳しくはこちら 最新情報 2023.11.20 東京事務所の階層移転をいたしました。 2023.11.13 「SEMICON Japan 2023」(東京ビッグサイト/12.13-15/ブースNo.3820)に出展いたします 2022.01.14 代表取締役社長が交代いたしました。 2021.09.10 電子デバイス産業新聞に記事が掲載されました。 2021.09.09 SiCウェーハの取扱いを開始いたしました。 2021.05.15 資本金を1億円に変更いたしました。 採用情報 募集情報はこちら
製品情報 厚膜熱酸化膜加工 当社の厚膜熱酸化膜技術は光通信部材に利用されています。 シリコンの限界を超えたシリコン。それが私たちの厚膜形成技術です。 詳しくはこちら SOIウェーハ 当社のSOIウェーハは、自社独自の厚膜熱酸化膜技術を基に製作されております。 こちらMEMS分野において大変有効です。 詳しくはこちら 基板販売 半導体用および光通信用、その他各種製品用途としてご提供いたします。 サイズや製法、面方位や厚みなどお客様のニーズに合わせた製品をご提供できます。 詳しくはこちら SiCウェーハ販売 SiCウェーハは絶縁破壊電界強度がSiの10倍、熱伝導度が3倍と優れておりパワーデバイスやLED用途といして幅広く使用されています。 詳しくはこちら
最新情報 2023.11.20 東京事務所の階層移転をいたしました。 2023.11.13 「SEMICON Japan 2023」(東京ビッグサイト/12.13-15/ブースNo.3820)に出展いたします 2022.01.14 代表取締役社長が交代いたしました。 2021.09.10 電子デバイス産業新聞に記事が掲載されました。 2021.09.09 SiCウェーハの取扱いを開始いたしました。 2021.05.15 資本金を1億円に変更いたしました。